Ultraheli pihustussüsteem fotoresistiga katmiseks

 

 

 

Ultraheli atomiseerimispihustussüsteem fotoresist-resist-katte jaoks. Fotoresist-resist kate on tsentrifuugimise alternatiivne meetod. Fotoresisti lahus pihustatakse kõrgsagedusliku ultraheli vibratsiooniga mikromeetri suuruseks vedelikuks ja seejärel sadestatakse fotoresisti tilgad substraadi pinnale, moodustades pideva fotoresistkile. Seetõttu võib pihustamine katta mis tahes kujuga substraadi kogu pinna ja anda konformse katte olenemata topoloogiast.
Fotoresisti pihustamiseks peab fotoresist olema piisavalt madala viskoossusega. Tavaliselt mõne cSt viskoossusega võib olla vajalik fotoresisti lahjendamine lahustiga. Fotoresisti lahjendamine võib kiirendada fotoresisti vananemisprotsessi ja moodustada keskkonnas osakesi. Veel üks pihustamise piirang on see, et pinnale langevate tilkade juhusliku jaotuse tõttu on raske moodustada õhukesi kilesid, mis on väiksemad kui 1 µm. Pideva õhukese kile moodustamiseks on vaja saavutada minimaalne kriitiline fotoresisti tilkade tihedus, mis suurendab minimaalset kile paksust ja töötlemisaega.

 

 

 

 

 

1. Pooljuhtide tootmine: kiibi tootmisprotsessi ajal võib ultraheli fotoresisti pihustamine parandada fotolitograafia protsessi täpsust.
2. Mikronano töötlemine: täpne fotoresist kate on mikrostruktuuride ja nanostruktuuride valmistamisel ülioluline.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Kuum tags: Ultraheli pihustuspihustussüsteem fotoresist-resistkatte jaoks, Hiina ultrahelipihustamise pihustussüsteem fotoresistkattega kattekihi tootjatele, tarnijatele, tehastele